Emerging lithographic technologies XII : 26-28 February 2008, San Jose, California, USA / Frank M. Schellenberg, editor ; sponsored by SPIE ; cooperating organization, SEMATECH (USA).

Сохранить в:
Библиографические подробности
Опубликовано: Bellingham, Wash. : SPIE, c2008.
Корпоративные авторы:
Другие авторы:
Серии:Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; v. 6921.
Предметы:
Формат:

EPS Library, Level 3

Подробно о фондах из EPS Library, Level 3
Шифр Копировать Loan Type Статус Поместить задолженность
TK 7874 .E535 2008 pt. 1 AU1608375AB
For loan Доступно Поместить задолженность
TK 7874 .E535 2008 pt. 2 AU16083695B
For loan Доступно Поместить задолженность