Emerging lithographic technologies XII : 26-28 February 2008, San Jose, California, USA / Frank M. Schellenberg, editor ; sponsored by SPIE ; cooperating organization, SEMATECH (USA).
Zapisane w:
Wydane: |
Bellingham, Wash. :
SPIE,
c2008.
|
---|---|
organizacja autorów: | |
Kolejni autorzy: | |
Seria: | Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ;
v. 6921. |
Hasła przedmiotowe: | |
Format: | Książka |
EPS Library, Level 3
Sygnatura
Egzemplarz
Loan Type
Status
Zamów
|
|||||