Emerging lithographic technologies XII : 26-28 February 2008, San Jose, California, USA / Frank M. Schellenberg, editor ; sponsored by SPIE ; cooperating organization, SEMATECH (USA).

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Wydane: Bellingham, Wash. : SPIE, c2008.
organizacja autorów:
Kolejni autorzy:
Seria:Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; v. 6921.
Hasła przedmiotowe:
Format: Książka

EPS Library, Level 3

Szczegóły zapisu EPS Library, Level 3
Sygnatura Egzemplarz Loan Type Status Zamów
TK 7874 .E535 2008 pt. 1 AU1608375AB
For loan Dostępne Zamów
TK 7874 .E535 2008 pt. 2 AU16083695B
For loan Dostępne Zamów